Генеральный секретарь ЦК КПВ То Лам и Премьер-министр Фам Минь Тьинь на церемонии.
Генеральный секретарь ЦК КПВ То Лам и Премьер-министр Фам Минь Тьинь на церемонии.

[Фото] Церемония закладки первого камня высокотехнологичного завода по производству полупроводниковых чипов

16 января в высокотехнологичном парке Хоалак (Ханой) Генеральный секретарь ЦК КПВ То Лам, Премьер-министр Фам Минь Тьинь, руководители Партии и Государства присутствовали на церемонии закладки первого камня высокотехнологичного завода по производству полупроводниковых чипов, предназначенного для удовлетворения потребностей Военно-промышленной и телекоммуникационной группы Министерства обороны в научном исследовании, проектировании и производстве полупроводниковых чипов.

image1.jpg
Генеральный секретарь ЦК КПВ То Лам на церемонии.
image2.jpg
Делегаты мероприятия.
image3.jpg
Генеральный секретарь ЦК КПВ То Лам, Премьер-министр Фам Минь Тьинь, партийные и государственные лидеры проводят церемонию закладки первого камня под строительство завода.
image4.jpg
Генеральный секретарь ЦК КПВ То Лам осматривает высокотехнологичную продукцию Военно-промышленной и телекоммуникационной группы.
image5.jpg
Премьер-министр Фам Минь Тьинь осматривает высокотехнологичную продукцию Военно-промышленной и телекоммуникационной группы.

рекомендуем

Back to top